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杭州昆山硅片回收公司硅片回收上海东昇 单晶多晶回收价格供应

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上海市硅片回收公司厂家

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  • 品牌: 其他
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  • 规格: 3.7
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毫秒 纳米 吨 停表
测量工具 千克 力 刻度尺
克 牛顿 *小刻度 毫克
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测力计 零刻度线 天平 弹簧秤
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非晶体 热传导 物体 吸收
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固体 汽化 热量 液体
蒸发 比热容 气体 沸腾
物态变化 沸点
光 光源 入射角 焦距 光的直线传播
反射角 会聚 小孔成像 镜面反射
发散 日食 漫反射 光屏屏幕
月食 平面镜 照相机 光速
潜望镜 幻灯机 真空 蜡烛
电影放映机 空气 光的折射 放大镜
玻璃 折射光线 倒立的 水
折射角 正立的 均匀介质 透镜
缩小的 光的反射 凸透镜 放大的
反射定律 凹透镜 实像 入射光线
主光轴 虚像 反射光线 光心
海市蜃楼 法线 焦点 光的色散
磁 磁体 小磁针 磁场 天然磁体
磁极 地磁场 人造磁体 电流的磁场
南极 条形磁铁 北极 磁感线
蹄形磁铁 磁化 电磁铁
声音 振动 声波 振幅 介质
音调 噪音 传播 响度
乐音 声速 音色 分贝
回声 频率
力 重力 惯性 动力 重心
平衡 阻力 摩擦力 压强
动力臂 滑动摩擦 帕斯卡 阻力臂
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大气压强 滑轮 压力 标准大气压
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力的图示 托里拆利 滑轮组 力的大小
阿基米德原理 功 力的方向 密度
功率 力的作用点 潜水艇 机械效率
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飞艇 额外功 力的合成 简单机械
总功 形变 杠杆 斜面
牛顿*定律 支点
电 电荷 正极 电压 带电体
负极 伏特 摩擦起电 电路
伏特计 正电荷 通路 电阻
负电荷 开路 欧姆 导体
短路 变阻器 绝缘体 电路图
滑动变阻器 半导体 串联 欧姆定律
电源 并联 电功 导线
电量 电功率 电键 电流
额定电压 干电池 安培 额定电功率
蓄电池 安培计
化学清洗  化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染,方法较多,有溶剂萃取、酸洗(*酸、*、*、各种混合酸等)和等离子体法等。其中双氧水体系清洗方法效果好,环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性,将有机物分解而除去;用超纯水冲洗后,再用成分比为H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的碱性清洗液清洗,由于H2O2的氧化作用和NH4OH的络合作用,许多金属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水;然后使用成分比为H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液,由于H2O2的氧化作用和*的溶解,以及氯离子的络合性,许多金属生成溶于水的络离子,从而达到清洗的目的。

放射示踪原子分析和质谱分析表明,采用双氧水体系清洗硅片效果*好,同时所用的全部化学试剂 H2O2、NH4OH、HCl能够完全挥发掉。用H2SO4和H2O2清洗硅片时,在硅片表面会留下约2×1010原子每平方厘米的*原子,用后一种酸性清洗液时可以完全被*。用H2O2体系清洗硅片无残留物,有害性小,也有利于工人健康和环境保护。硅片清洗中用各步清洗液处理后,都要用超纯水彻底冲洗。
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