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铜靶材Cu供应99.99高纯北京铜靶材Cu价格铜靶材Cu生产厂家

北京市铜靶材铜靶材厂家

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直径60mm铜靶  5mm铜靶  直径50.8mm铜靶  精车表面铜靶  非平衡磁控溅射用铜靶  非对称脉冲溅射用铜靶  中频交流反应溅射用铜靶   射频溅射用铜靶  直流溅射用铜靶  离子镀溅射用铜靶  铜靶材绑定焊接  旋转铜靶  平面铜靶  多弧铜靶材金属铜靶  磁控溅射铜靶  科研用铜靶  定做铜靶  圆片圆形铜靶  进口铜靶  实验用铜靶  高纯铜靶  低公差铜靶  高致密铜靶  反应磁控溅射用铜靶  离子束溅射用铜靶

物理性质  颜色: 铜红色; 密度:8.96g/cm?;熔点:1084

技术指标  纯度:99.99%;相对致密度:>99%;切面平整度:3.2Ra

          公差:±0.1mm;晶粒度:均匀

材质  冠金利-Cu

品牌  冠金利-

产地  北京市

产品规格  尺寸01:直径<360mm   厚度>1mm(圆片/圆台/圆棒)

          尺寸02:长度<300mm宽度<300mm厚度>1mm   矩形/片材/台阶状(可拼接)

          尺寸03:外直径<360mm内直径>1mm壁度>1mm长度>1mm(管材/圆环/旋转靶材)

          尺寸04:根据用户需要进行定制,来样加工,来图加工

最少起订量  1片,量大优惠

供货能力  同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/

交货期  单片材料1周内发货,批量材料15-20天内发货(工作日)

制作工艺  真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工

适用仪器  各类型号磁控溅射设备等

产品用途  工业级镀膜,实验或研究级别用铜靶材,电子,光电,装饰,功能薄膜等

产品优点  1、质量可靠,*惠

          2、还原法制备,纯度高,杂质少

          3、轧制致密,氧化少,成型可塑

          4、相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高

产品附件  正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单

包装方式  真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装

运输方式  国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦)

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陶瓷靶材:氮化硅靶Si3N4,氮化铝靶AIN,氮化硼靶BN,氮化铬靶材CrN,氮化锆靶ZrN,氮化钛靶TiN,*靶CdTe,二硅化钼靶MoSi2,二硫化钼MoS2,二硼化锆靶ZrB2,二硼化钛靶TiO2,二氧化锆靶ZrO2,二氧化硅靶SiO2,二氧化锰MnO2,二氧化铈靶CeO2,二氧化钛靶TiO2,二氧化锡靶SnO2,*靶BaF2,氟化钙靶CaF2,氟化铝靶AlF3,氟化镁靶MgF2,氟化铈靶CeF2,*靶CdS,硫化亚铜Cu2S,硫化锌靶ZnS,硼靶B,硼化铪靶HfB2,三氧化二铬靶Cr2O3,三氧化二锰Mn2O3,三氧化钨靶WO3,钛酸钡靶BaTiO3,钛酸镨靶PrTiO3,石墨靶C,碳化锆靶ZrC,碳化铬靶Cr3C2,碳化硅靶SiC,碳化铪靶HfC,碳化硼靶B4C,碳化钛靶TiC,碳化钨靶W2C,五氧化二铌靶Nb2O5,氧化铒靶Er2O3,氧化钴靶CoO,氧化铪靶HfO2,氧化镓靶Ca2O3,氧化钪靶Sc2O3,氧化铝靶Al2O3,氧化镁靶MgO,氧化镍靶NiO,氧化钕靶Nd2O3,氧化钽靶Ta2O5,氧化铁靶Fe2O3,氧化铜靶CuO,氧化锌靶ZnO,氧化钇靶Y2O3,氧化铟靶In2O3ITO靶(In2O3+SnO2),AZO(ZnO+AL203)LGZO靶,氧化硅铪靶HfO2

标签:     北京市铜靶材铜靶材   北京市铜靶材铜靶材厂家
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