function loadjscssfile(filename, filetype){ if (filetype=="js"){ //if filename is a external JavaScript file var fileref=document.createElement(script) fileref.setAttribute("type","text/javascript") fileref.setAttribute("src", filename) } else if (filetype=="css"){ //if filename is an external CSS file var fileref=document.createElement("link") fileref.setAttribute("rel", "stylesheet") fileref.setAttribute("type", "text/css") fileref.setAttribute("href", filename) } if (typeof fileref!="undefined") document.getElementsByTagName("head")[0].appendChild(fileref) }
等离子体增强化学气相沉积DLC—沉积类金刚石膜
非晶类金刚石薄膜界面 使用PlasmaPro System133 RIE沉积DLC 工艺参数 批处理数量:
| 硅晶片数量可达20 x 2", 5 x 100mm, 4 x 125mm
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沉积速率
| > 45nm/min
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均匀性
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晶片内部
| < ± 5% 单个150mm (边缘剔除7mm)
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不同晶片间
| < ± 10% 4 x 125mm
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工艺特点 - 使用PlasmaPro System133 RIE沉积得到的DLC石膜具有非常高的击穿场强(例如120nm厚的石膜可以承受高达1750V 的电压),低漏电率以及高硬度。这些特性使这些DLC石膜非常适合作为高压设备的钝化材料。
- PlasmaPro System133 RIE可以同时作为沉积与刻蚀DLC石膜的工具。它拥有大面积的电极,允许批量处理。为了大批量生产以及使用方便,可加装盒式的晶片装载附件。
- PlasmaPro System133 RIE使用了光学发射式分析仪器对等离子体清洁及刻蚀时间进行优化,保证*的生产效率。
var TabbedPanels1 = new Spry.Widget.TabbedPanels("TabbedPanels1");