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小型气相沉积厂家

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薄膜(比如铱和铂薄膜)之所以引起人们的兴趣是因为它们具有良好的性能 、高的电导率 、很强的催化活性以及很好的稳定性等 。这些性能使得薄膜在电极材料 、微电子 、固态燃料电池和气敏元件等许多领域存在广泛的应用。


在CVD处理过程中,尺寸变形小的材料是硬质合金及含Cr高的不锈钢系合金;冲压加工领域使用的模具材料主要限于合金工具钢、冷作模具钢(C*MoV)、硬质合金等,其中快冷淬透钢,气相沉积设备厂家,由于快冷时容易产生翘曲、扭曲等变形,所以不宜进行CVD处理;而高速钢是热处理膨胀较大的钢种,使用时必须充分估计其膨胀变形量。





PCVD的工艺装置由沉积室、反应物输送系统、放电电源、真空系统及检测系统组成。气源需用气体净化器除往水分和其它杂质,气相沉积设备,经调节装置得到所需要的流量,再与源物质同时被送进沉积室,小型气相沉积设备,在一定温度和等离子体等条件下,得到所需的产物,并沉积在工件或基片表面。所以,气相沉积设备制造商,PCVD工艺既包括等离子体物理过程,又包括等离子体化学反应过程。




气相沉积设备

工艺特点

(1)广泛应用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料等。

(2)在产量方面,从单件到大批量皆可。

(3)有质量优势,沉积温度低,薄膜成份易控,膜厚与淀积时间成正比,均匀性,重复性好,台阶覆盖性优良。

(4)工具涂层的生产效率不如PVD,具体取决于特定技术要求和辅助工艺。

化学气相沉积曾是真空技术广泛用于陶瓷沉积的种技术,特别是对工具涂层更是这样。



镀膜机工艺在太阳能运用方面的运用当需求有用地运用太阳热能时,就要思考选用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所导致的损耗较小的吸收面。太阳光谱的峰值大约在波长为2-20μm之间的红外波段。


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