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光氧催化原理
半导体光催化剂大多是n型半导体材料(当前以为TiO2使用最广泛)都具有区别于金属或绝缘物质的特别的能带结构,即在价带 (ValenceBand,VB)和导带(ConductionBand,CB)之间存在一个禁带(ForbiddenBand,BandGap)。由于 半导体的光吸收阈值与带隙具有式K=1240/Eg(eV)的关系,因此常用的宽带隙半导体的吸收波长阈值大都在紫外区域。当光子能量高于半导体吸收阈值 的光照射半导体时,半导体的价带电子发生带间跃迁,即从价带跃迁到导带,uv光解废气处理哪家好,从而产生光生电子(e-)和空穴(h+)。此时吸附在纳米颗粒表面的溶解氧俘获电 子形成超氧负离子,而空穴将吸附在催化剂表面的氢氧根离子和水氧化成氢氧自由基。而超氧负离子和氢氧自由基具有很强的氧化性,能将绝大多数的有机物氧化至 最终产物CO2和H2O,甚至对一些无机物也能*分解。
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旋 风除尘是利用旋转的含尘气流所产生的离心力,将颗粒污染物从气体中分离出来 的过程。含尘气体切向进入除尘器,uv光解废气处理供应商,在旋风除尘器内做连续旋转运动,遵义uv光解废气处理,颗粒获得较大的 离心力,uv光解废气处理标准,被抛到器壁上,碰撞跌落。尘粒沿器壁滑落到底部的灰斗内,而外旋气流在底 部中心转而形成向上的反转流,后经排气管排出。