价格: 电议
物流: 暂无物流地址| 买家支付运费
可销售总量: 1000件
手机: 010-89789198 邮箱: 3373603340@qq.com
传真: 010-89789198 地址: 北京市 北京市
邮箱:
手机:
磁控溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
磁控溅射靶材应用领域
存储用在储存技术方面,二氧化硅厂,高密度、大容量硬盘的发展,需要大量的巨磁阻薄膜材料,CoF ~Cu多层复合膜是如今应用广泛的巨磁阻薄膜结构。磁光盘需要的 T b F e C o合金靶材还在进一步发展,用它制造的磁光 盘具有存储容量大,寿命长,可反复无接触擦写的特 点。如今开发出来的磁光盘,二氧化硅批发,具有 T b F e C o / T a和 T b F e C o / Al 的 层复合膜结构, T bF eCo/AI结构的Kerr 旋转角达到5 8,而T b F e Co f F a 则可以接近0.8。经过研究发现, 低磁导率的靶材高交流局部放电电压 l 抗电强度。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
溅射靶材的主要应用
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材就是目标材料。用于高能激光中,二氧化硅多少钱,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应。用于物理镀膜中的溅镀,主要有金属靶材和陶瓷靶材
石久高研专注15年提供高纯靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~
真空镀膜和光学镀膜的区别
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,二氧化硅,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
如果只是就膜厚仪测试来讲的话,真空镀膜和光学镀膜的区别就是:
1、真空镀膜:一般TiN,CrN,TiC,ZrN,电镀出来的厚度大概是3~5微米。一般情况真空镀膜的厚度是在设备上测试不出来了;
2、光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。
最早的是光控测试,现在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度。不同膜层的厚度不同。
就算镀膜机是国产的,膜厚测试仪也是美国或者是韩国的。通用美国的型号是:MDC360C。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~